张汝京领会，拉着邱慈云去一边：「老邱啊，以前没有认可你的路线是我的问题，你看，季明华，周梅生，涂良山这些你的老部下，我都提拔到工程副总裁，厂长.……」
俩人聊着走远。留下梁孟松，盯着那个空荡荡的超洁净室，忽然道：「你确定下个月资金能到位，我就请张总联系aml下新的订单了，等机器到了我还要做很多改动，需要些时间，最好能一次拿三台，定制套件会方便一些。」
「没问题。」陈学兵笃定道。
说着，心里又是惊叹。
这神人居然还能改aml的新机器。
「对了，你那天说t1900做fnft至少要三台联动，如果……aml下一代浸没式出来，单次曝光的制程节点更进一步，那就不需要这麽多机器了吧？」
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「不能。」梁孟松打量了他一眼，道：「我已经解释过了，需要多台机器这是工序问题，多重曝光的原理是把一个复杂图形拆分成多个简单图形，更好的光刻机只是能让每个工序做更快一些，提高总体产出。」
梁孟松说到这里又再打量他，眼神里有些疑色。
「而且t1900在单次曝光制程上已经很难进步，快到极限了，你不知道？」
陈学兵有点懵了。
我又不是专家，上哪知道去？
而且……这才2007年，你跟我说极限？「不可能吧？不是听说aml在研究下一代吗？」
梁孟松见他瞪眼加迷茫，这才细细解释道：
「光刻机的精度提升，离不开一个公式，叫瑞利判据。
「计算公式为=k?×λ/na，是单次曝光的线宽，k?是工艺因子，λ是波长，na是数值孔径。
「需要线宽更小，就必须减小分子，扩大分母，分子k?目前的进步十分缓慢，λ波长是193nm，af光源，这也无法更改了。
「而分母，数值孔径na=n×nθ，θ是物镜最边缘光线与中轴线的半角，n是介质的折射率。
「浸没式光刻机的光介质是水，折射率比空气大很多，约等於1.44，而这台机器的第二代折反式光学镜头已经把θ拉到了大约70°，n70°≈0.937，na已经达到了1.35，差不多逼近极限了。
「所以，下一代光刻机，大概率只能从套刻精度上下功夫，提升多重曝光的能力，而单次曝光的极限很难提升了。」
这次梁孟松讲很慢，而且
…。。